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NE-RE04A型反應離子刻蝕機是專為高校科研院所、半導體實驗室、微納器件研發企業定製的精密幹法刻蝕實驗設備，依托RIE反應離子刻蝕技術，融合物理離子轟擊與化學草莓视频APPIOS下载反應雙重作用，在真空低壓環境下實現微納尺度高精度圖形刻蝕，是微電子、MEMS、光電子、新材料研發領域工藝實驗與小批量試樣加工的核心設備。

該設備主要由反應腔室模塊、溫度控製模塊、壓力控製模塊、工藝氣體流量控製模塊和射頻電源控製模塊等組成，工藝實驗中將需要刻蝕的材料放於載片台,水冷係統用於冷卻載片台溫度,接入的工藝氣體通過勻氣盤的作用下均勻進入。再將射頻接頭與腔室內部電極有效連接，由此組成了RIE腔室內部基本環境。其刻蝕反應的基本原理為,反應發生在反應腔室內部,平板電極集成在反應腔室上下兩端,在電極之間施加13.56MHz的高頻電壓時會產生數百微米厚的離子層,由離子高速撞擊反應腔室內試樣而完成反應蝕刻。

主要用途：主要用於介電材料(SiO2、SiNx等)，矽基材料(Si、a-Si、polySi)等，有機材料（PR PMMA HDMS ）有機膜的刻蝕。其他：表麵清洗活化改性等。